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5/11-28 ずれた 国際現代版画展&シンポジウム

美術史は天才によって生み出された傑作について語ることを好みますが、アーティストたちは傑作とは成功よりもある種の失敗から生まれることを知っています。
版画はその入り組んだ制作プロセスのために、失敗や間違いの機会を豊富に与えてくれます。この展覧会に参加するアーティストたちはそうした経験を共有し、「失敗」からの着想を通して生まれた作品を発表します。版画による「ずれ」= 失敗 がしばしば新たな作品に繋がることから、私たちはこの展覧会を「ずれた」と名づけました。
5大陸14カ国における19校もの大学から若いアーティストたちを迎え、ここに彼らの「ずれた」作品と取り組みを紹介できることを嬉しく思います。

会期


2017年5月11日(木)- 5月28日(日)
午前10時 - 午後5時(入館は閉館の30分前まで)
※5月26日(金)- 28日(日)のみ午後6時まで開館

会場

東京藝術大学大学美術館 陳列館2階

休館日

月曜日

観覧料

無料

主催

東京藝術大学美術学部

協力

東京藝術大学デザイン科視覚・伝達研究室、ウィーン応用芸術大学

助成

藝大フレンズ賛助金、オーストリア文化フォーラム


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